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作為覆蓋全球光電領域全產業鏈的完美綜合性盛會，第 26 屆中國國際光電博覽會（CIOE 2025）于 2025 年9月7日至9日在深圳國際會展中心（寶安新館）成功舉辦。收官設備術重塑薄本屆展會匯集全球光電科技前沿成果，瑞典為行業構建高效深度的攜系列新技交流合作平臺。作為電離物理氣相沉積（PVD）領域的高端專家，瑞典Ionautics攜 HiPIMS系列高端鍍膜設備及技術解決方案亮相，鍍膜集中展示其在薄膜沉積領域的及創積技術積累與研發實力。

 

 

本屆展會以 “光電科技賦能產業革新” 為主題，膜沉聚焦全球光電產業趨勢與升級路徑，用新全面覆蓋信息通信、場景精密光學、完美激光及智能制造、收官設備術重塑薄AR&VR、瑞典智能傳感、攜系列新技新型顯示及光電子創新等重要領域，高端集中呈現從核心材料、關鍵設備到系統方案的全產業鏈創新技術，為光電產業及其下游應用持續注入新動能。展會期間，Ionautics 的創新產品與技術吸引了眾多業內關注。

 

 

圖片來源：CIOE中國光博會

深耕PVD領域，創新驅動發展

 

Ionautics自2010年成立以來，始終專注于PVD領域的創新與研究，以創新驅動、精密工業以及可持續理念，為全球工業與科研用戶提供專業技術支持和解決方案。經過多年技術積累，公司已形成以 HiPIMS（高功率脈沖磁控濺射）技術為核心，同步深耕 CVD（化學氣相沉積）與納米粒子合成技術的研發體系。

 

 

HiPIMS是一種先進的薄膜沉積工藝，通過高功率脈沖等離子體放電實現濺射材料的高離化率，進而提升薄膜沉積過程的控制精度與材料性能。該技術目前已廣泛應用于高性能薄膜制備領域，包括定制化涂層、類金剛石碳（DLC）膜、透明導電氧化物（如 ITO）、阻隔涂層、光學與電氣功能涂層，以及復雜三維結構的均勻覆蓋。Ionautics基于該技術開發的 HiPSTER系列設備，具備高精度脈沖控制與工藝穩定性，支持多種脈沖模式，在提升薄膜致密性、硬度、導電性和覆蓋一致性方面表現突出，已為半導體、光學、能源和精密制造等行業提供穩定的涂層解決方案。

 

多元化產品展示，滿足多場景需求
 

Ionautics HiPSTER 系列的多個型號設備，包括 HiPSTER 1、HiPSTER 6 Bipolar、HiPSTER 10 及 HiPSTER 25 等，覆蓋從科研到工業級應用的多場景高端鍍膜需求。其中，HiPSTER 1 作為一款高性能雙極型高功率脈沖磁控濺射電源裝置，以其高度穩定和可重復的工藝，能夠保障涂層質量的一致與可靠，廣泛適用于 DLC、ITO、阻隔涂層等多種高端應用場景。

 

 

HiPSTER 25則面向工業級薄膜沉積需求，采用碳化硅（SiC）功率器件，支持高達150kHz的脈沖頻率，兼具高效能轉換與工藝穩定性。作為新一代的高功率脈沖磁控濺射電源，其先進的晶體管技術和雙極運行優勢，使得離子加速無需襯底偏壓即可實現，顯著提升了反應性HiPIMS工藝中的沉積速率與膜層均勻性，廣泛應用于航空航天、醫療器械和汽車制造等對涂層質量要求極高的領域。

 

 

深度交流，助力光電產業升級

 

 

展會期間，Ionautics展位現場交流踴躍，公司技術人員與參觀者深入探討了光電涂層技術的最新進展與應用前景，并分享了HiPIMS等技術在工業應用中的成功案例和解決方案。通過此次展會，Ionautics不僅展示了其技術實力與產品優勢，也與眾多行業伙伴建立了緊密聯系，為未來的合作奠定了堅實基礎。

 

隨著全球光電產業的持續發展，技術創新正日益成為推動行業升級的核心驅動力。CIOE 2025 雖已圓滿落幕，但Ionautics在光電涂層技術領域的探索與創新仍在不斷推進。未來，Ionautics將進一步深化技術研發與跨行業合作，針對中國客戶需求提供定制化服務，為中國及全球市場提供更高效、穩定、綠色的薄膜沉積解決方案，助力光電產業邁向精密化、功能化、可持續化新階段。如需了解更多資訊，請前往Ionautics中國官網。